工業(yè)純水在制藥工業(yè)中的使用有哪些特別的要求
日期：2025-04-15
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工業(yè)純水在制藥工業(yè)中的使用有以下特別要求：
水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：
電阻率：≥0.5MΩ.CM，電導(dǎo)率：≤2μS。氨≤0.3μg/ml，硝酸鹽≤0.06μg/ml，重金屬≤0.5μg/ml。微生物≤10CFU/100ml，內(nèi)毒素≤0.25EU/ml。
生產(chǎn)工藝要求：
制備工藝需符合GMP認(rèn)證，設(shè)備全自動運行，具備反沖洗、再生、酸洗、消毒等程序。單體和管道設(shè)備需符合GMP要求，如后端處理設(shè)備采用316L材料，預(yù)處理設(shè)備采用UPVC管材。
應(yīng)用領(lǐng)域：
用于原料的溶解、稀釋，藥品的合成、提取、洗滌等環(huán)節(jié)。用于器械的清洗和消毒，確保無殘留雜質(zhì)。
微生物控制：
純化水系統(tǒng)需定期消毒和進(jìn)行微生物監(jiān)測，防止微生物滋生。儲存和分配系統(tǒng)需設(shè)計合理，避免死角和死水區(qū)，確保水質(zhì)穩(wěn)定。
設(shè)備要求：
制備設(shè)備需采用低碳不銹鋼或其他經(jīng)驗證不污染水質(zhì)的材料。儲存周期不宜大于24小時，儲罐需采用不銹鋼材料或經(jīng)驗證無毒、耐腐蝕的材料制作。
工業(yè)純水具有以下特點：
一、水質(zhì)純凈度高
雜質(zhì)含量極低
工業(yè)純水經(jīng)過多道工序處理，幾乎去除了水中的所有雜質(zhì)，包括懸浮顆粒、膠體、溶解性固體（如鹽類、有機(jī)物等）。例如，其溶解性固體總量（TDS）通?？傻椭? - 10μg/L以下，而普通水中TDS可能在幾十到幾百mg/L不等。
離子濃度低
水中的陽離子（如鈉離子、鈣離子、鎂離子等）和陰離子（如氯離子、硫酸根離子等）濃度被嚴(yán)格控制。對于高純度的工業(yè)純水，其電導(dǎo)率可低至0.05 - 1.0μS/cm，這表明水中離子數(shù)量極少，因為電導(dǎo)率與水中離子濃度密切相關(guān)。
二、化學(xué)穩(wěn)定性好
不易發(fā)生化學(xué)反應(yīng)
由于雜質(zhì)和離子濃度低，工業(yè)純水在一般條件下不易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。例如，在一些對水質(zhì)要求極高的電子工業(yè)中，使用工業(yè)純水不會因為水中雜質(zhì)引發(fā)的化學(xué)反應(yīng)而污染產(chǎn)品或影響生產(chǎn)設(shè)備的正常運行。
對容器和管道的腐蝕性低
工業(yè)純水中的離子含量少，特別是像氯離子等具有腐蝕性的離子含量極低，所以對儲存和使用它的容器及輸送管道的腐蝕性較弱。這有助于延長容器和管道的使用壽命，減少維護(hù)成本。
三、微生物含量少
微生物生長受限
在制取工業(yè)純水的過程中，通常會采用多種手段（如紫外線殺菌、超濾等）來去除微生物或者抑制其生長。因此，工業(yè)純水中微生物（如細(xì)菌、病毒、真菌等）的含量極低，通常每毫升水中細(xì)菌數(shù)量可控制在幾個甚至更少，這對于一些對微生物敏感的工業(yè)生產(chǎn)過程（如制藥、電子芯片制造等）至關(guān)重要。
四、用途廣泛
電子工業(yè)
在半導(dǎo)體制造、集成電路生產(chǎn)、液晶顯示器制造等領(lǐng)域，工業(yè)純水用于清洗硅片、芯片等微小部件，去除表面的雜質(zhì)和污染物，確保產(chǎn)品的電學(xué)性能和可靠性。
制藥工業(yè)
用于藥品的生產(chǎn)過程，如注射劑、眼藥水等的配制，以及制藥設(shè)備的清洗。因為藥品的質(zhì)量和安全性要求極高，工業(yè)純水的純凈度能夠滿足這些嚴(yán)格要求。
電力工業(yè)
在火力發(fā)電、核能發(fā)電中，工業(yè)純水可作為鍋爐補(bǔ)給水，防止鍋爐內(nèi)部結(jié)垢和腐蝕，提高發(fā)電效率，延長設(shè)備使用壽命。
實驗室
在化學(xué)分析、生物實驗等科研工作中，工業(yè)純水作為實驗用水，為實驗提供準(zhǔn)確、可靠的實驗環(huán)境，避免水中雜質(zhì)對實驗結(jié)果的干擾。
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